英国Emitech高真空离子溅射仪K575X/K575D使用“涡轮”泵，前级为旋转机械泵，整个抽真空过程为自动控制。真空度可调整，以适应铬或其它易氧化金属，以及金靶等不同材料要求，定时器可设置成不同的溅射时间。

本系统装配了磁控管靶，靶面直径为54 mm，可快速更换靶材。

溅射头用Peltier制冷，可得到高性能、精细颗粒的涂层（无需水冷却）。

溅射时参数可预设，包括气体放气电磁阀。

K575D（双头）其它与K575X相同，只是具有两个溅射头。在进行特殊涂层的应用时，不需要打开真空即可进行两层沉积溅镀。

注：K575D技术规格与K575X相同，但它有双头。K575X具有peltier制冷，对于比较厚的沉积，通常用K575D（双头）单元。

英国Emitech高真空离子溅射仪K575X/K575D的主要特点

1、全自动控制

2、Peltier冷却溅射头

3、精细镀层（0.5nm Cr粒子）

4、可倾斜的特殊旋转台作为标准配置

5、薄膜沉积（典型为5nm）

6、直径为165mm腔室

7、可选双溅射头

8、可接膜厚测控仪

优点：

● 可溅射易氧化金属精细颗粒，如：铬（Cr）或铱(Ir)

● 应用范围广，除了可选溅射常用金属靶材如：金银铂钯铜锡铝镁铁钴镍铬钛钼钨铱钽等单质纯金属靶材之外，还可选配金钯合金靶、铂钯合金靶、碳靶以及ITO（氧化铟锡）靶等特殊靶材

● 易操作

● 无需水冷却

● 高分辨率，可复制涂层

● 适应各种样品

● 重复膜厚沉积

● 样品容易装载和卸载

● 不需要打开真空即可进行顺序涂层

● 沉积厚度可预设

英国Emitech高真空离子溅射仪K575X/K575D的技术参数

1、仪器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H

2、工作腔室：硼硅酸盐玻璃 165mm Dia x 125mm H

3、钟罩：聚碳酸酯

4、基座：110 mm直径 x 115mm高

5、重量：42公斤

6、靶：54 mm 直径 x 0.2mm 厚(铬作为标准靶材)

7、样品台：50mm直径，具有倾斜功能的旋转样品台

8、操作真空：1 x 10-2 mbar到 1 x 10-4 mbar

9、溅射电流：0-150mA

10、沉积速率：0-20nm/分

11、溅射定时：0-4 分钟

12、涡轮分子泵：60 litres/Second (极限真空 1x10-8 mbar)

13、真空泵：No 2. 泵complete with Vac. Hose & Oil Mist Filter 35L/Min 2m3/Hr

14、电源：230伏/50Hz(包括泵最大电流为6安培)