英国Emitech全自动磁控离子溅射仪K550X具有旋转样品台，它也可倾斜，非常适合各种样品使用。预选择参数及全自动控制使得准确镀层及重复厚度沉积更为方便。磁电管靶使用低电压，可提效率高，K550X能得到非常精细的颗粒，由于是冷溅射，所以无需冷却靶面或样品台。

腔室直径为165 mm(6英寸)，非常方便装载及移走样品。

仪器装有60mm直径、0.1mm厚的金靶（或用户选择），提供适合的性能价格比。可选靶材包括金/钯，铂/钯和铂。

功能集中在仪器面板上及即插即用电子学设计，“up-time”，这些用户友好设计满足了不同学科的用户需求。

溅射参数可被预先设置，包括气体放气针阀，此阀为电磁阀，一旦设置，它就不需要再调节。溅射头互锁，系统可容易选配K250镀碳附件。本仪器为全自动操作，可控制独立的真空泵。

英国Emitech全自动磁控离子溅射仪K550X的特点

1、全自动控制

2、低电压溅射

3、高分辨率精细涂层

(金颗粒可达2 nm)

4、具有倾斜装置的特殊旋转台

5、均匀厚度沉积

(扫描电镜一般厚度为20nm 或200埃)

6、165 mm(6英寸)腔室

优点：

● 易操作

● 无需冷却样品台

● 准确的再次涂层

● 适合各种样品

● 膜厚度重复性好

● 容易装载或卸载样品

● 可预设沉积厚度

英国Emitech全自动磁控离子溅射仪K550X的技术参数

1、仪器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H 重量:18公斤

2、工作腔室:硼硅酸盐玻璃 165mm Dia x 125mm H

3、安全钟罩:聚碳酸酯

4、靶：60mm 直径 x 0.1mm 厚(金作为标准靶面)

5、样品台直径为50mm，靶面距离40mm,具有倾斜装置的旋转台

6、真空范围:ATM-1x10-2 mbar

7、溅射电流:0-50mA

8、沉积速率:0-25nm/分

9、溅射定时: 0-4 分钟

10、预设置针阀:控制氩

11、电源:230 伏 50Hz